發佈公司:汎銓科技股份有限公司發佈日期:2019/3/20
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euv微影技術是5奈米及3奈米製程繼續發展的關鍵技術,但目前世界各國大廠都面臨極大的困難,主因是難以克服曝光光阻時產生的物理性及化學性變化引發的缺陷。euv光阻缺陷可藉由tem進行形貌及成分分析,而樣品製備難度極高,tem樣品必須維持原貌不變形才能分析缺陷真因。汎銓科技已發展出一套檢測光阻缺陷的技術,能在保持光阻材料原貌情況下,分析曝光缺陷和製程問題,藉此幫助半導體廠改良製程。
汎銓科技開發獨步全球的低損傷euv光阻材料分析技術,可提供最精準的數據,讓客戶在先進製程研發競賽中持續領先。除了新竹總部已設置完善的實驗室,配備全套分析設備;為支援客戶需求,子公司南京泛銓電子科技已在南京浦口經濟開發區正式落戶,提供各項半導體先進製程分析服務,包括:材料分析、故障分析及可靠度分析等,服務對象包括大陸的晶片產業、積體電路、led及光通訊產業。
汎銓科技2005年7月成立,在專業領域獨領風騷,南京廠區為大陸營運總部。汎銓表示,大陸欠缺在地化的高端材料分析廠商,汎銓供應最先進的分析技術服務,為大陸重點產業建立優質研發能量的有力後盾,並可培育更多優秀人才,協助晶片廠縮短先進製程的時間。<摘錄經濟> 資訊來源:公開資訊觀測站
汎銓低損傷EUV光阻材料分析技術 全球獨家
內容:汎銓科技(mss)專攻半導體先進製程的材料分析及故障分析,技術能力可對應7奈米以下製程。2019 semicon china,該公司位於hall n5,5759的攤位,可望吸引大批業內人士互動交流。euv微影技術是5奈米及3奈米製程繼續發展的關鍵技術,但目前世界各國大廠都面臨極大的困難,主因是難以克服曝光光阻時產生的物理性及化學性變化引發的缺陷。euv光阻缺陷可藉由tem進行形貌及成分分析,而樣品製備難度極高,tem樣品必須維持原貌不變形才能分析缺陷真因。汎銓科技已發展出一套檢測光阻缺陷的技術,能在保持光阻材料原貌情況下,分析曝光缺陷和製程問題,藉此幫助半導體廠改良製程。
汎銓科技開發獨步全球的低損傷euv光阻材料分析技術,可提供最精準的數據,讓客戶在先進製程研發競賽中持續領先。除了新竹總部已設置完善的實驗室,配備全套分析設備;為支援客戶需求,子公司南京泛銓電子科技已在南京浦口經濟開發區正式落戶,提供各項半導體先進製程分析服務,包括:材料分析、故障分析及可靠度分析等,服務對象包括大陸的晶片產業、積體電路、led及光通訊產業。
汎銓科技2005年7月成立,在專業領域獨領風騷,南京廠區為大陸營運總部。汎銓表示,大陸欠缺在地化的高端材料分析廠商,汎銓供應最先進的分析技術服務,為大陸重點產業建立優質研發能量的有力後盾,並可培育更多優秀人才,協助晶片廠縮短先進製程的時間。<摘錄經濟> 資訊來源:公開資訊觀測站